
解決痛點
技術簡介
本發明提供一種內生菌—大豆間座殼菌 (Diaporthe caulivora) 萃取物用於製備抗紫外線傷害及減少色素沉澱之組合物的用途。本技術新開發「樟科植物大武新木薑子 (Neolitsea daibuensis)」葉子中所分離出之內生菌-大豆間座殼菌於粧品、生技醫藥之應用價值。內生菌經特定發酵條件製備所得之萃取物,經一系列試驗證實:此具抗紫外線傷害及減少色素沉澱之作用,可減少皮膚因紫外線過度曝露所造成之色素沈澱、皮膚乾燥、發炎、或光老化等不適之狀況。

▲圖1


▲圖2
應用案例
相關連結
無
專利名稱證號
TW I755170
CN 202310317717.8、CN 5906956
技術產學合作或技轉單位
無
獲獎紀錄
無
技術聯絡人
高雄醫學大學 洪一豪副理
連絡電話:07-3121101 ext. 2360
聯絡信箱:R121084@kmu.edu.tw